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Sub-Half-Micron Lithography for ULSIs

Língua InglêsInglês
Livro Capa mole
Livro Sub-Half-Micron Lithography for ULSIs Katsumi SuzukiShinji MatsuiYukinori Ochiai
Código Libristo: 02018293
Editoras Cambridge University Press, novembro 2005
In semiconductor-device fabrication processes, lithography technology is used to print circuit patte... Descrição completa
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In semiconductor-device fabrication processes, lithography technology is used to print circuit patterns on semiconductor wafers. The remarkable miniaturization of semiconductor devices has been made possible only because of the continuous progress in lithography technology. However, for the trend of ever-increasing miniaturization to continue a breakthrough in lithography technology is now needed. This book describes advanced techniques under development in Japan and elsewhere that represent the key to future semiconductor-device fabrication. The background to developments in lithography technology, trends in ULSI technology and future prospects are reviewed, and the requirements that future lithography technology must meet are described. Several important lithography methods, such as deep UV lithography, X-ray lithography, electron-beam lithography, and focused ion-beam lithography are described in detail by experts in each area. The principles underlying each of these methods are illustrated at the beginning of each chapter to help the reader understand the basis of the different approaches.

Atriz & Poliglota
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Sobre o livro

Nome completo Sub-Half-Micron Lithography for ULSIs
Língua Inglês
Encadernação Livro - Capa mole
Data de emissão 2005
Número de páginas 344
EAN 9780521022347
ISBN 0521022347
Código Libristo 02018293
Peso 616
Dimensões 179 x 245 x 18
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