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Machine Learning-Based Modelling in Atomic Layer Deposition Processes

Língua InglêsInglês
Livro Livro de capa dura
Livro Machine Learning-Based Modelling in Atomic Layer Deposition Processes Oluwatobi Adeleke
Código Libristo: 43909170
Editoras Taylor & Francis Ltd, dezembro 2023
This book describes the application of machine learning modelling approaches in atomic layer deposit... Descrição completa
? points 526 b
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This book describes the application of machine learning modelling approaches in atomic layer deposition and presents detailed information on modelling, optimization, and prediction of the behaviour and characteristics of ALD for improved process quality control.

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Sobre o livro

Nome completo Machine Learning-Based Modelling in Atomic Layer Deposition Processes
Autor Oluwatobi Adeleke, Sina Karimzadeh, Jen, Tien-Chien (University of Johannesburg, South Africa)
Língua Inglês
Encadernação Livro - Livro de capa dura
Data de emissão 2023
Número de páginas 496
EAN 9781032386706
Código Libristo 43909170
Editoras Taylor & Francis Ltd
Peso 662
Dimensões 156 x 234

Categorias

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