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Atomic Layer Deposition

Principles, Characteristics, and Nanotechnology Applications

Língua InglêsInglês
Livro Livro de capa dura
Livro Atomic Layer Deposition Tommi Kaariainen
Código Libristo: 04949772
Editoras John Wiley & Sons Inc, junho 2013
Since the first edition was published in 2008, Atomic Layer Deposition (ALD) has emerged as a powerf... Descrição completa
? points 447 b
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Since the first edition was published in 2008, Atomic Layer Deposition (ALD) has emerged as a powerful, and sometimes preferred, deposition technology. The new edition of this groundbreaking monograph is the first text to review the subject of ALD comprehensively from a practical perspective. It covers ALD's application to microelectronics (MEMS) and nanotechnology; many important new and emerging applications; thermal processes for ALD growth of nanometer thick films of semiconductors, oxides, metals and nitrides; and the formation of organic and hybrid materials.

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Sobre o livro

Nome completo Atomic Layer Deposition
Autor Tommi Kaariainen, David Cameron, Marja-Leena Kaariainen, Arthur Sherman
Língua Inglês
Encadernação Livro - Livro de capa dura
Data de emissão 2013
Número de páginas 272
EAN 9781118062777
ISBN 1118062779
Código Libristo 04949772
Editoras John Wiley & Sons Inc
Peso 582
Dimensões 240 x 164 x 25

Categorias

Tecnologia, Engenharia & Agricultura > Engenharia mecânica & materiais > Ciência dos materiais > Aplicações de revestimentos na engenharia
Tecnologia, Engenharia & Agricultura > Eletrónica & engenharia das comunicações > Engenharia eletrónica > Dispositivos e materiais eletrónicos
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